什么是磁控濺射技術 ？

發布日期：2024-03-31      瀏覽次數：795

 什么是磁控濺射技術 ？

“磁控濺射"技術是美國在60、70年代后發展航空航天事業同步發展起來的玻璃膜制造技術，原來較早是應用于航空航天事業，目的是解決航天玻璃的隔熱防爆問題。進入21世紀，磁控濺射已經成為了制備薄膜的主要技術之一，被廣泛應用于電子、光學等領域。

磁控濺射金屬膜的原理就是，在真空環境里，將鉑、鎳、銀、鈦、金、銦、銅、鋁等高級宇航合金材料采用先進的多腔高速旋轉設備，利用電場與磁場原理高速度高力量地將金屬粒子均勻濺射于高張力的PET基材上，從而沉積成納米金屬膜層。









-磁控濺射金屬膜的優勢 




傳統的汽車膜生產時染色與鍍鋁的復合方式，鍍鋁的過程就是把一些熔點低的金屬物溶化之后，通過熱蒸發涂布在某種聚脂膜上，在加熱蒸發過程中，會導致鋁分子顆粒較大，光線漫反射、高反光等問題。如果再加上染色過程，顏料與鋁層對光線的相互干涉會產生大量散失光線，容易造成司機視覺疲勞，導致司機頭暈目眩、視覺模糊而引發駕車安全性下降等諸多問題。





















而磁控濺射金屬膜利用多腔高速磁控濺射工藝，達到雙面多層，多膜層間的互相消光，反光率大大降低。多種金屬的不同光譜特性，會選擇性的將陽光中的各種熱能源，包括紅外線、紫外線及可見光熱能反射回去，從而可以達到良好的持久隔熱效果，防止汽車內飾或人體受到紫外線的侵襲。















因為沒有添加顏料，所以不會產生偏色或變色褪色的問題，做到純正的中性色，能夠與任何車輛的顏色相匹配，不分層、不剝落與開裂，在不同的光照度下，視覺顏色不變，始終保持駕駛人員的視野清晰。



MSP-1S

該設備專用于貴金屬薄膜鍍膜，用于SEM觀察。這是一種用貴金屬涂覆 SEM 樣品以防止充電并提高二次電子產生效率的裝置。除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，還將樣品臺制成浮動式，以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單，按一下按鈕即可，沒有任何技巧。它很小，不占用太多空間。它放在辦公桌的一角會很有用。
目的
這是用于SEM樣品的金屬鍍膜裝置。

主要產品規格

物品	規格
電源	AC100V（單相100V 10A）3P帶地插頭1口
旋轉泵	10L/min（裝置內置）
設備尺寸	寬200mm x 深350mm x 高345mm （設備重量：14.6Kg）
樣品室尺寸	內徑120mm x 高65mm（硬玻璃）
樣品臺尺寸	直徑50mm（浮動法）
電極-樣品臺距離	35mm（使用輔助樣品臺時為25mm）
靶電極	內置永磁體的磁控管型靶電極
目標金屬規格	Φ51mm，厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag