電子設備行業潔凈室中的分子污染物監測

發布日期：2024-12-24      瀏覽次數：567

電子設備行業潔凈室中的分子污染物監測

在半導體、電視、通訊設備等電子器件行業中，潔凈室中的分子污染物（AMC*）會影響產品和制造設備的性能，導致生產質量缺陷。

*AMC=空氣分子污染

你有這樣的煩惱嗎？

• 手動分析需要成本、技能和時間。

• 我想知道什么時候更換化學過濾器合適。

• 電子元件模具的腐蝕

• 制造設備鏡片霧鏡

• 氧化膜耐壓性下降

• 蝕刻不良

• 薄膜生長不良（晶體中出現缺陷）

利用 HORIBA 的 AMC 監控系統可視化污染狀況并降低管理成本

HORIBA的AMC監測系統通過自動測量支持污染物濃度的趨勢監測以及化學過濾器的維護和管理，補充了傳統的手動分析測量，為解決客戶的問題做出了貢獻。此外，通過結合室外大氣測量，我們可以提出更全面的測量解決方案。

特征

• 通過穩定的自動連續測量
  來監控污染趨勢，我們可以估計產品和外圍設備的缺陷原因，以及何時更換化學過濾器。

• 易于操作，
  無需特殊技能。減少行政成本、時間和人力成本

• 該系統可以根據您的需求進行升級。
  使用選線器的多點測量、使用手推車的便攜式測量等（可選）

• 不僅支持潔凈室內的大氣測量，還支持室外空氣的大氣測量。

操作示例



• 潔凈室或循環空氣中分子污染物 (AMC) 的測量

• 在一些設備周圍等地點進行集中測量

• 檢測特定事件，例如由于交通流量（室外空氣）增加而導致的氮氧化物濃度增加

提高時間分辨率 獲取連續數據有助于 AMC 的早期檢測！

• 它可以捕獲測量值之間的詳細波動，這是每周手動分析無法捕獲的。



提高空間分辨率 通過多點測量估計 AMC 的來源！

• 它在大型工廠中特別有效，因為它可以通過切換線路，用一臺設備測量多個位置（10 個或更多）。



相關產品清單

APNA-370

氮氧化物（NOx）濃度測量裝置

APNA-370 [高靈敏度]

氮氧化物（NOx）濃度測量裝置

APNA-370/CU-2

氨（NH3）濃度測量裝置

APSA-370

硫氧化物（SO2）濃度測量裝置

APSA-370 [高靈敏度]

硫氧化物（SO2）濃度測量裝置

APSA-370/CU-1

硫化氫（H2S）濃度測量裝置

APHA-370

總碳氫化合物（THC）濃度測量裝置

APOA-370

臭氧（O3）濃度測量裝置