日本CCS 165-SHU超高高壓汞燈光源在半導體行業的應用與技術優勢

發布日期：2025-06-30      瀏覽次數：156

1. 產品概述

日本CCS 165-SHU 是一款高性能超高壓汞燈光源，采用165W直流供電設計，具備3800mW/cm2的超高紫外輻射強度，廣泛應用于半導體制造、光刻工藝、UV固化及精密檢測等領域138。其核心優勢包括：

• 200atm超高壓汞燈，短弧長僅1mm，可實現高精度聚焦，滿足半導體光刻的高分辨率需求。

• 寬光譜輸出（315-420nm），主峰波長365nm，適配多種光刻膠及光敏材料。

• 強制風冷散熱+熱斷路器保護，確保長時間穩定運行，適用于高負荷生產環境。

2. 在半導體行業的核心應用

（1）光刻工藝

• 高精度曝光：165-SHU的短弧設計配合高反射光學系統，可實現微米級光刻圖形化，適用于芯片制造、掩模版曝光及晶圓級封裝。

• 替代部分DUV光源：相比深紫外光（DUV）設備，高壓汞燈光源成本更低，技術成熟，適用于中低端光刻及科研級半導體實驗。

（2）UV固化與封裝

• 芯片封裝固化：用于環氧樹脂、光敏膠的快速固化，提升封裝效率（如Flip-Chip、BGA封裝）。

• PCB防焊層處理：高能量UV輻射可固化阻焊油墨，確保電路板絕緣性與耐腐蝕性。

（3）缺陷檢測與質量控制

• 晶圓表面檢測：通過紫外熒光激發，識別晶圓表面的微裂紋、污染顆粒及光刻膠殘留。

• 掩模版清潔度檢查：利用365nm紫外光增強缺陷對比度，提高檢測精度。

3. 技術優勢對比

特性	CCS 165-SHU	傳統汞燈	EUV/DUV光源
輻射強度	3800mW/cm2（@365nm）	通常＜2000mW/cm2	更高（但成本昂貴）
光譜范圍	315-420nm（寬光譜）	窄光譜	極窄（13.5nm EUV）
適用工藝	光刻、固化、檢測	基礎曝光、照明	芯片制程
成本效益	高（設備與維護成本低）	低	高

---

4. 行業發展趨勢與165-SHU的定位

• 中低端光刻市場：在成熟制程（如LED、MEMS、功率器件）中，高壓汞燈仍占據重要地位，165-SHU憑借高穩定性和低運營成本成為優選。

• 科研與原型開發：高校及研究所利用其寬光譜特性，進行光化學改性、納米材料光刻等實驗。

• 自動化集成：支持外部控制接口，可適配半導體產線的自動化曝光與檢測系統。

5. 結論

日本CCS 165-SHU 憑借高能量密度、精準聚焦及長壽命設計，在半導體行業的中端光刻、封裝固化和缺陷檢測中展現出顯著優勢。盡管EUV/DUV技術主導先進制程，但高壓汞燈在成本敏感型應用和科研領域仍不可替代。對于需要平衡性能與預算的半導體企業，165-SHU是高效可靠的紫外光源解決方案。