NGK MEGCON II+ PRC系列：基于電阻率精密控制的超純水靜電消除解決方案

發(fā)布日期：2025-08-26      瀏覽次數(shù)：88

在半導(dǎo)體、平板顯示等高制造領(lǐng)域，超純水（UPW）清洗是至關(guān)重要的工藝環(huán)節(jié)。然而，高純度的超純水（電阻率≥18.2 MΩ·cm）幾乎不導(dǎo)電，其在高速流動(dòng)和噴射過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生顯著的靜電電荷積累，導(dǎo)致晶圓電路擊穿和微粒吸附污染，嚴(yán)重威脅產(chǎn)品良率。傳統(tǒng)的靜電消除方法存在諸多局限，而日本NGK公司推出的MEGCON II+ PRC系列，創(chuàng)新性地采用了電阻率精密控制（Performance & Reliability by Resistivity Control） 策略，為解決這一行業(yè)難題提供了方案。

一、 傳統(tǒng)挑戰(zhàn)與PRC方案的革新性

過(guò)去，部分工藝嘗試使用異丙醇（IPA）等化學(xué)添加劑來(lái)增加超純水的導(dǎo)電性，但這種方法會(huì)引入新的污染風(fēng)險(xiǎn)，且后續(xù)難以徹去除。NGK的MEGCON系列另辟蹊徑，采用向超純水中溶解高純度二氧化碳（CO?） 的物理方法。CO?溶于水后生成碳酸，可逆地電離出微量H?和HCO??離子，從而安全、可控地降低超純水的電阻率，使其具備電荷中和能力。

MEGCON II+ PRC系列的革新之處在于，它并非簡(jiǎn)單地注入CO?，而是通過(guò)一套精密的閉環(huán)控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)超純水電阻率的實(shí)時(shí)、精準(zhǔn)調(diào)控，從而將靜電消除效果提升至未有的穩(wěn)定性和可靠性水平。

二、 精密電阻率控制（PRC）的核心工作原理

PRC技術(shù)是MEGCON II+系列的靈魂，其工作流程體現(xiàn)了真正的“智能化"：

1. 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)（Sense）： 系統(tǒng)內(nèi)置的高精度電阻率傳感器持續(xù)監(jiān)測(cè)處理后超純水的電阻率值。

2. 智能對(duì)比（Compare）： 控制系統(tǒng)將實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)值與用戶設(shè)定的目標(biāo)電阻率值（通常為1-10 MΩ·cm的最佳范圍）進(jìn)行比對(duì)。

3. 精確執(zhí)行（Actuate）： 根據(jù)比對(duì)結(jié)果，系統(tǒng)通過(guò)精密的流量控制閥自動(dòng)調(diào)節(jié)CO?的注入量。

• 若電阻率高于設(shè)定值，則增加CO?注入量。

• 若電阻率低于設(shè)定值，則減少CO?注入量。

4. 閉環(huán)反饋（Feedback）： 調(diào)整后的水流再次被監(jiān)測(cè)，形成一個(gè)連續(xù)的、高速響應(yīng)的閉環(huán)控制回路。

這種原理確保了無(wú)論上游超純水的流量、壓力如何波動(dòng)，系統(tǒng)輸出水流的電阻率始終穩(wěn)定在設(shè)定點(diǎn)，從而保證靜電中和效果的高度一致。

三、 方案的核心優(yōu)勢(shì)與價(jià)值

基于PRC技術(shù)，該解決方案為客戶帶來(lái)了顯著的價(jià)值提升：

• 靜電消除效果： 能將晶圓表面的靜電電位穩(wěn)定控制在±50V以內(nèi)，遠(yuǎn)超行業(yè)安全標(biāo)準(zhǔn)，有效杜絕靜電吸附和擊穿風(fēng)險(xiǎn)。

• 未有的工藝穩(wěn)定性： 閉環(huán)控制克服了流量波動(dòng)的影響，即使在低至每分鐘數(shù)升的小流量工況下，也能保持電阻率穩(wěn)定，保障了批間（Run-to-Run）和片間（Wafer-to-Wafer）的工藝一致性。

• 零0染與潔凈度保障： CO?方法無(wú)化學(xué)添加，后續(xù)可通過(guò)加熱或真空脫氣輕松去除，全恢復(fù)超純水本性，杜絕二次污染，契合高制造對(duì)潔凈度的嚴(yán)苛要求。

• 智能化與高可靠性：

• 警報(bào)歷史功能方便快速追溯故障根源，大幅減少停機(jī)時(shí)間。

• 密碼保護(hù)功能防止參數(shù)誤操作，確保工藝安全。

• 支持遠(yuǎn)程通信（RS-485/以太網(wǎng)），可輕松集成至工廠CIM系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)智能化生產(chǎn)管理。

四、 廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景

此解決方案廣泛應(yīng)用于一切依賴超純水清洗且對(duì)靜電敏感的精密制造領(lǐng)域：

• 半導(dǎo)體制造： 晶圓清洗、刷洗（Scrubbing）、蝕刻后清洗等工序。

• 平板顯示（FPD）： TFT-LCD、OLED玻璃基板的濕法刻蝕與清洗工藝。

• 光伏產(chǎn)業(yè)： 太陽(yáng)能電池硅片的制絨、清洗。

• 精密光學(xué)： 光學(xué)鏡頭、鏡片的最終清洗。

五、 結(jié)論

NGK MEGCON II+ PRC系列不僅僅是一個(gè)設(shè)備，更是一套完整的以數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)、以結(jié)果為導(dǎo)向的靜電消除解決方案。它通過(guò)精密控制電阻率這一核心參數(shù)，將超純水靜電消除技術(shù)從“粗放添加"時(shí)代推進(jìn)到了“精密控制"的新紀(jì)元。對(duì)于致力于提升良率、保障生產(chǎn)穩(wěn)定性和實(shí)現(xiàn)智能化管理的高制造企業(yè)而言，選擇MEGCON II+ PRC系列無(wú)疑是應(yīng)對(duì)超純水帶電挑戰(zhàn)的優(yōu)戰(zhàn)略決策。