Atomax噴嘴在半導(dǎo)體清洗行業(yè)的精密應(yīng)用與優(yōu)勢(shì)

發(fā)布日期：2025-09-16      瀏覽次數(shù)：4

半導(dǎo)體制造是當(dāng)今科技產(chǎn)業(yè)的核心，其工藝精度直接決定了芯片的性能與良率。在眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)中，清洗工藝至關(guān)重要，任何微小的污染物都可能導(dǎo)致芯片失效。日本Atomax二流體霧化噴嘴AM6、AM12、AM25和AM45系列，憑借其精密霧化能力和穩(wěn)定的性能，成為半導(dǎo)體清洗行業(yè)中不可少的工具。本文將深入探討這些噴嘴在半導(dǎo)體清洗中的應(yīng)用及其顯著優(yōu)勢(shì)。

一、半導(dǎo)體清洗的挑戰(zhàn)與Atomax的解決方案

半導(dǎo)體制造過程中，晶圓表面會(huì)附著各種污染物，包括顆粒、金屬離子、有機(jī)物等。傳統(tǒng)的清洗方法往往難以有效去除納米級(jí)污染物，且可能對(duì)精細(xì)結(jié)構(gòu)造成損傷。Atomax噴嘴通過其創(chuàng)新的二流體霧化技術(shù)，產(chǎn)生了平均粒徑約5μm的超細(xì)霧化顆粒，能夠深入芯片表面的微觀結(jié)構(gòu)，有效去除0.1μm以下的顆粒污染物，同時(shí)減少對(duì)晶圓的物理沖擊。

二、Atomax AM系列噴嘴的技術(shù)特點(diǎn)

Atomax AM系列噴嘴采用外混合渦流式設(shè)計(jì)，具有以下顯著特點(diǎn)：

• 超細(xì)霧化能力：能夠產(chǎn)生平均粒徑約5μm的液滴，顯著提高清洗精度和均勻性。

• 大孔徑防堵塞設(shè)計(jì)：噴嘴孔徑是傳統(tǒng)噴嘴的10-200倍，液體流道為直線結(jié)構(gòu)，能夠處理高粘度液體（可達(dá)10,000cp）及含固體顆粒的漿料而不堵塞。

• 節(jié)能高效：相比傳統(tǒng)噴嘴，壓縮空氣消耗降低15-70%，減少了運(yùn)營成本。

• 緊湊結(jié)構(gòu)與材質(zhì)多樣：噴嘴體積小巧，易于集成到現(xiàn)有設(shè)備中；除標(biāo)準(zhǔn)SUS316L不銹鋼外，還提供PEEK、PTFE等耐化學(xué)腐蝕材質(zhì)，適應(yīng)強(qiáng)酸/堿環(huán)境。

三、AM系列噴嘴在半導(dǎo)體清洗中的具體應(yīng)用

1. 光刻工藝中的清洗與噴涂

在光刻過程中，AM6和AM12噴嘴用于光刻膠的均勻噴涂，可實(shí)現(xiàn)±1%的膜厚均勻性，避免邊緣堆積問題。同時(shí)，這些噴嘴還用于顯影后的清洗工作，其低沖擊力霧化特性減少了10nm以下精細(xì)圖案的坍塌風(fēng)險(xiǎn)。

2. 晶圓清洗

• 顆粒污染物去除：AM6噴嘴能產(chǎn)生5μm液滴，有效清除0.1μm以上的顆粒，使污染物減少85%。

• 蝕刻后殘留清洗：BN160噴嘴（與AM系列設(shè)計(jì)理念相通）處理高粘度蝕刻液，通過化學(xué)+物理雙重作用，缺陷密度降低30%。

• 3D結(jié)構(gòu)深孔清洗：AM12噴嘴的超細(xì)霧化能力解決了FinFET等高深寬比（>50:1）結(jié)構(gòu)的清洗死角問題。

3. 封裝工藝中的清洗

在芯片封裝過程中，封裝基板表面可能存在污染物，影響封裝的可靠性。AM系列噴嘴能夠?qū)暹M(jìn)行精確清洗，去除灰塵、油脂等，保證芯片與基板間的良好連接。

四、Atomax噴嘴的使用優(yōu)勢(shì)

1. 精密清洗與高效污染物去除：Atomax噴嘴能有效去除0.1μm以下的顆粒、金屬離子和有機(jī)物，顯著提升芯片良率。

2. 適應(yīng)性強(qiáng)與高可靠性：采用高耐腐蝕材料制造，能適應(yīng)各種化學(xué)清洗劑，在嚴(yán)苛環(huán)境中長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行，減少維護(hù)頻率和停機(jī)時(shí)間。

3. 減少溶劑消耗與降低成本：在邊緣珠去除（EBR）等應(yīng)用中，噴嘴能精準(zhǔn)操作，溶劑消耗降低30%1。

4. 靈活性高與易于集成：模塊化設(shè)計(jì)和小巧體積使其能輕松集成到現(xiàn)有半導(dǎo)體清洗設(shè)備中，即使空間有限也能靈活安裝。

5. 工藝簡(jiǎn)化與效率提升：一個(gè)噴嘴通過參數(shù)調(diào)整即可適應(yīng)多種工藝需求，如支持i-line至EUV光刻膠噴涂，簡(jiǎn)化了設(shè)備配置，并顯著縮短了清洗時(shí)間，提升了生產(chǎn)效率。

五、未來發(fā)展趨勢(shì)

隨著半導(dǎo)體技術(shù)向2nm及更小制程邁進(jìn)，以及第三代半導(dǎo)體的發(fā)展，對(duì)清洗工藝的要求將愈發(fā)苛刻。Atomax噴嘴技術(shù)也在不斷進(jìn)化，未來將更加注重智能化與綠色制造：

• AI閉環(huán)控制：集成流量傳感器實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)參數(shù)，適配柔性電子等新興需求。

• 低碳化設(shè)計(jì)：進(jìn)一步降低壓縮空氣消耗，符合RoHS 3.0等環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

結(jié)語

日本Atomax的AM6、AM12、AM25和AM45系列二流體霧化噴嘴，憑借其超細(xì)霧化能力、防堵塞性能、高適應(yīng)性以及節(jié)能高效的特點(diǎn)，在半導(dǎo)體清洗行業(yè)中展現(xiàn)出顯著的應(yīng)用價(jià)值。它們不僅提升了清洗工藝的精度和效率，還有助于提高芯片制造的良率和可靠性，是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域邁向更高工藝水平的重要助力。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，Atomax噴嘴將繼續(xù)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演關(guān)鍵角色，推動(dòng)行業(yè)突破物理極限，實(shí)現(xiàn)新的飛躍。